포토레지스트
- 동의어
- 반도체 제조공정, 유기가스용 정화통, 클린룸, IPA(이소프로필알코올)
포토레지스트란 빛을 받으면 성질이 변하는 감광액으로 웨이퍼에 회로 패턴을 새기는 데 쓰인다.
원리
수지와 감광제, 용제로 이루어져 있고 웨이퍼에 얇게 바른 뒤 빛을 쬐면 노광된 부분의 용해도가 달라집니다. 현상액에서 그 부분만 남거나 씻겨 나가며 패턴이 생깁니다.
용도
포토 공정에서 회로 패턴을 만드는 감광 재료로 씁니다.
주의사항
유해성은 감광 성분보다 용제에서 옵니다. 도포와 현상 중 증발한 유기용제가 노출원이 되므로 국소배기와 유기가스용 정화통 기준으로 관리해야 합니다.
자주 묻는 질문
무엇으로 이루어져 있나요?
수지와 감광제, 용제로 이루어져 있습니다.
어떤 성분이 위험한가요?
휘발하는 유기용제 성분이 문제가 됩니다.
양성과 음성은 무엇이 다른가요?
빛을 받은 부분이 씻겨 나가는지 남는지가 다릅니다.